装置概要
この装置は、2つの独立したチャンバーを持ち、それぞれカーボン蒸着、マグネトロンスパッタ、親水処理の機能を有する装置です。1台で、VC-300、MSP-1S、PIB-10,3機種の性能を搭載しております。外付けロータリーポンプ排気で2系統の排気管切換を行っております。
また、それぞれのチャンバーは真空排気と大気解放を独立して行うことが出来、チャンバーは真空の保持が可能です。
カーボン蒸着
TEM、SEM、X線分析等のカーボン膜作成装置です。樹脂包埋試料のチャージアップ防止等に使用します。
イオンスパッタ
SEM観察用貴金属薄膜コーティング専用装置です。SEM試料のチャージアップを防止し、二次電子の発生効率を向上させるための貴金属コーティングを行います。マグネトロンターゲット電極による低電圧放電に加えて、試料台をフローティング方式にすることにより、電子線流入による試料損傷を軽減しております。
親水処理
透過電子顕微鏡のグリッドメッシュやコロジオン支持膜、カーボン支持膜、その他ダイヤモンドナイフ等の親水化処理や、油脂汚れ等のクリーニングに使用します。
交流放電によるプラズマイオンを試料表面に照射します。試料表面の化学結合を断ち官能基を形成します。このため、活性状態となった試料表面と水分子との化学結合が促進され親水性となります。
また、油脂汚れ等の化学結合を断ち、汚れを除去する効果を得ることが可能です。
照射強さ(SOFT/HARD)の切り換えが可能です。
商品は、装置本体、ロータリーポンプ、SUS製フレキシブルホースがセットになっております。
現地へお伺いしての設置・操作説明が必要となります。
VES-10 装置の仕様
項目 | 仕様 |
---|---|
電源 | AC100V(単相100V15A)アース付き3Pプラグ 1口 |
装置サイズ | 幅400mm、奥行360mm、ベース高さ280mm CARBONチャンバー高さ +185mm IONチャンバー高さ +101mm (装置重量:29Kg) |
ロータリーポンプ | 排気速度50ℓ/min(GLD-051) 重量13.9kg ロータリーポンプ用オイル(SMR-100)使用量:600~800ml |
カーボン蒸着側仕様 | |
試料室サイズ | 内径120mm、高さ140mm(硬質ガラス) |
蒸着源―試料台間隔 | 直径50mm(フローティング方式) |
電極-試料台間隔 | 45mm~75mmの範囲で調整可能 |
試料ステージサイズ | Φ100mm |
搭載可能試料サイズ | Φ98mm、最大試料高さ40mm |
蒸着電源 | OUTGAS、EVAPO. 各固定電圧2段階切換、最適電圧にプリセット |
カーボン源 | 専用替え芯型カーボン SLC-30 |
イオンチャンバー側仕様 | |
試料室サイズ | 内径120mm、高さ65mm(硬質ガラス) |
電極―試料台間隔 | 35mm固定 |
試料台サイズ | Φ50mm(フローティング方式) |
スパッタターゲット電極 | 永久磁石内蔵マグネトロン型ターゲット電極 |
ターゲット金属仕様 | Φ51mm、厚さ0.1mm Pt、Pt-Pd、Au、Au-Pd、Ag(t0.5mm) |
スパッタ電源 | DC500V、0~50mA(可変抵抗による調整) |
親水処理用電極 | Φ50mm、SUS製ターゲット |
親水処理用電源 | SOFT:450V、10~20mA HARD:550V、20~30mA (任意で切換可能) |
VES-10 消耗品・部品リスト
消耗品のご購入・ご依頼の際は、最寄りの代理店または営業お問い合わせからお申し込みください。
VES-10用
Auターゲット
【t=0.1mm】
VES-10用
Ptターゲット
【t=0.1mm】
VES-10用
Au-Pdターゲット
【t=0.1mm】
Au60%:Pd40%
VES-10用
Pt-Pdターゲット
【t=0.1mm】
Pt80%:Pd20%
VES-10用
Agターゲット
【t=0.5mm】
専用カーボン
SLC-30
1ケース(100本入り)
専用カーボン
SLC-30
お得な10ケースセット
VES-10用ガラス筒パッキン(2本1組)
VES10カーボンコート側ガラスチャンバー
VES10イオンコート側ガラスチャンバー
ロータリーポンプ用オイル(500ml入)
【SMR-100】
ガラスチャンバー、クランプばねや汚れ防止板等の部品も、劣化や破損があった際は単品での制作も可能です。
その他メンテナンス・修理に関するお問い合わせはサービスお問い合わせよりご連絡ください。
スパッタ金属粒子の比較
Au:金
観察領域:数千~1万倍
Au-Pd:金パラジウム
観察領域:1万~5万倍
低倍率観察に最適でコントラストが良い。
Pt:白金
観察領域:1万~5万倍
Pt-Pd:白金パラジウム
観察領域:3万~5万倍
粒子径が細かく、高倍率で観察する際によく使われる。
本装置のスパッタ機能は卓上SEMや汎用SEM観察前の導電コーティングが主な目的となる装置です。
※高倍率観察のできるFE-SEMを利用される場合は、タングステンスパッタ装置(MSP-20TK)やオスミウムコーター(HPC-20)をご検討ください。
※電極作成などの膜質を優先される場合はアルゴン雰囲気でスパッタのできるMSP-20シリーズよりご検討ください。
カーボンコーターと高真空蒸着装置の違い
カーボンコーターは主に、ロータリーポンプ排気のみの装置か、ターボポンプを搭載した高真空蒸着装置に分けられます。高真空蒸着装置との性質の違いを理解することは、装置選定の際に役に立ちます。
ロータリーポンプ排気蒸着装置 VES-10、VC-300S/W | 高真空排気蒸着装置 VE-2013、VE-2050など | |
真空排気系 | ロータリーポンプ | ロータリーポンプ+ターボ分子ポンプ |
成膜真空度 | 1~2(Pa) | 5×10 -3(Pa)以下 |
粒状性 | 粒子は細かいが膜としては粗い | 粒子もきめ細かく膜質も綺麗である |
膜質 | 残留分子とぶつかり合いながら降り積もるため、膜質は粗くて脆い | 残留分子が無く、直線的に粒子が飛び付着するため、膜質も綺麗で強い |
回り込み性 | 残留分子とぶつかり合いながら多方向へ飛散するため、ある程度回り込み性がある | 直線的に粒子は飛んで付着する、影になった部分には成膜されない |
カーボン蒸着の利用目的 | 切片や支持膜の補強、元素分析、高倍率SEM観察、FIB保護膜など。 | 切片や支持膜の補強、元素分析、高倍率SEM観察、FIB保護膜、カーボン支持膜の作成、シャドウイング法、など。 |
※カーボンコーターは利用目的を絞った仕様であり、用途は限られますが、装置価格を抑えることができます。
関連コンテンツ
-
支持膜
TEMグリッド用カーボン支持膜の作成
支持膜としては主にコロジオン、フォルムバールがよく用いられますが、カーボン膜は耐熱性や科学的安定性に優れ、支持膜として利用されることも増えております。また、… -
支持膜
透過型電子顕微鏡の支持膜作成について
支持膜とは 電子顕微鏡観察における支持膜とは、観察対象となるサンプルを、グリッドと言われる円盤の上に保持する役割を持つ薄膜です。光学顕微鏡では透明なガラスの上… -
蒸着装置
替え芯型カーボン【SLC-30】
SLC-30は、Smokeless Carbon(スモークレスカーボン)の文字SLCをとりまして名付けられました。その名の通り、焼き出しによる煙の出ない、油…
-
スパッタ装置
Al2O3(酸化アルミニウム)のRFスパッタによる薄膜作成
酸化アルミニウム薄膜(Al₂O₃薄膜)は、化学的安定性、優れた絶縁性、高い耐久性を備えているため、さまざまな工業分野で需要が増大している材料の一つです。この薄膜は… -
スパッタ装置
マグネトロンスパッタの成膜
マグネトロンスパッタの成膜について少し詳しく見ていきましょう。図では分かりやすくアルゴンガスを導入したイメージを表しています。 プラズマを作るためのガス 真空… -
スパッタ装置
RFスパッタについての解説
RFスパッタとは RFスパッタとはRF(Radio Frequency)と呼ばれる高周波帯の電源を用いたスパッタ方法です。DCスパッタでは行えない絶縁性ターゲットのスパッタ電源として… -
スパッタ装置
スパッタ装置、マグネトロンスパッタの原理
スパッタとは スパッタとは小さな微粒子が飛び散る様を表す単語です。語源とされている「splutter」は飛び散るという擬音を表します。おしゃべりの際に唾が飛ぶ飛沫や、…