特注品用真空コンポーネンツに関するお問い合わせは
Tel：０２９−２４０−６００５
真空コンポーネンツは真空装置の部品として、手軽に導入することが可能です。
設計負担を軽減したり、既存の真空装置に機能を追加したりすることが可能となります。
RFイオンスパッタ源 VMCシリーズ
DCスパッタでは行えない絶縁性ターゲットのスパッタを可能にします！
ICFフランジ組み込み型のRFコンポーネンツです。１インチ、２インチ、また磁性材対応の強マグネットタイプがございます。
EBガン EBGシリーズ
高融点金属や酸化物などの蒸着を可能とします！
ICFフランジ組み込み型のEBガンコンポーネンツです。シングルタイプと３連型がございます。
Kセル加熱コンポーネント KNCシリーズ
超高真空領域で高品質の結晶膜作成に！
るつぼ内の原料をヒーターで加熱することにより飽和蒸気圧の分子線を発生させ、基板に原料を結晶成長させます。
イオン銃 SIGシリーズ
試料表面の汚染物質や酸化膜の除去を目的とします！
加速電極に電圧をかけることにより、電気的に中性なプラズマにプラス電位を持たせると電極に空いた穴からイオンが飛び出します。イオン銃は、そのイオンを基板に照射します。
ビューポートシャッター VPSUシリーズ
ビューポートへの膜付着を回避します！
ビューポートとチャンバーフランジ間に回転式のシャッターを設置し、ビューポートへの蒸着物の付着を防止することが出来るシャッターです。
基板交換ハッチ VPHシリーズ
工具を使用することなく真空フランジの開閉が可能になります！
チャンバーを大気開放して基板交換を行う際に、フランジを外す手間を軽減します。
ICFフランジ直線移動機構 ZLTシリーズ
真空中での正確な位置合わせに必須！
ICFフランジにマウントされた真空中の部品を溶接ベローズの伸縮を利用して、任意の位置まで直線的かつ正確に移動を可能にした機構です。