目次
装置概要
この装置はマグネトロンターゲットによるメタルコーティング装置です。8インチウェハのような大面積試料や、多数個試料の同時処理に使用します。
MSP-8inのターゲット電極はターゲット金属面に沿って多重同心円状の磁場を形成させ、この磁場で電子を捕捉することによりターゲット金属をスパッタさせるためのプラズマイオン密度を向上させています。磁場の強さはターゲットの中心部から外周まで被着金属膜の厚さが一様になるように構成されています。
商品は、装置本体、ターゲット金属1枚(種類を指定してください)、ロータリーポンプ、SUS製フレキシブルホースがセットになっております。
据付取扱説明の必要がある装置です。
MSP-8in 装置の仕様
項目 | 仕様 |
---|---|
電源 | AC100V(単相100V)15Aアース線付き3芯プラグ |
装置サイズ | 幅450mm、奥行き400mm、高さ372mm (装置重量36.9kg) |
ロータリーポンプ | 幅234mm、奥行き500mm、高さ264mm G-101D (重量 25kg) |
試料室サイズ | 内径230mm、高さ60mm |
試料ステージサイズ | 直径210mm |
最大試料サイズ(ウェハ) | 直径200mm |
ターゲット(貴金属) | 直径200mm Pt、Au、Ag その他種類につきましてはご相談ください。 |
MSP-8in 消耗品・部品リスト
消耗品のご購入・ご依頼の際は、最寄りの代理店または営業お問い合わせからお申し込みください。
MSP-8in用
Auターゲット
【t=0.1mm】
MSP-8in用
Ptターゲット
【t=0.1mm】
MSP-8in用
Agターゲット
【t=0.5mm】
その他ターゲット種類をご要望の場合はご相談ください。
※本装置で使用できるのは貴金属ターゲットのみになります。
※ターゲットは張替え作業を必要とします。
その他メンテナンス・修理に関するお問い合わせはサービスお問い合わせよりご連絡ください。
MSP-8in 推奨ユーティリティについて
本装置は大容量大面積装置のため、アルゴンガスの利用が推奨となります。
Arガスのご準備について
アルゴンガスの導入について 真空デバイスの装置では、雰囲気ガスとしてアルゴンガスの導入が必要なもの、推奨のものがございます。ガス導入設備においてはお客様準備品…
スパッタ金属粒子の比較
Au:金
観察領域:数千~1万倍
Au-Pd:金パラジウム
観察領域:1万~5万倍
低倍率観察に最適でコントラストが良い。
Pt:白金
観察領域:1万~5万倍
Pt-Pd:白金パラジウム
観察領域:3万~5万倍
粒子径が細かく、高倍率で観察する際によく使われる。
関連コンテンツ
-
スパッタ装置
Al2O3(酸化アルミニウム)のRFスパッタによる薄膜作成
酸化アルミニウム薄膜(Al₂O₃薄膜)は、化学的安定性、優れた絶縁性、高い耐久性を備えているため、さまざまな工業分野で需要が増大している材料の一つです。この薄膜は… -
スパッタ装置
マグネトロンスパッタの成膜
マグネトロンスパッタの成膜について少し詳しく見ていきましょう。図では分かりやすくアルゴンガスを導入したイメージを表しています。 プラズマを作るためのガス 真空… -
スパッタ装置
RFスパッタについての解説
RFスパッタとは RFスパッタとはRF(Radio Frequency)と呼ばれる高周波帯の電源を用いたスパッタ方法です。DCスパッタでは行えない絶縁性ターゲットのスパッタ電源として… -
スパッタ装置
スパッタ装置、マグネトロンスパッタの原理
スパッタとは スパッタとは小さな微粒子が飛び散る様を表す単語です。語源とされている「splutter」は飛び散るという擬音を表します。おしゃべりの際に唾が飛ぶ飛沫や、…