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マグネトロンスパッタ装置 MSP-40T

目次

装置概要

この装置は多目的簡易操作型マグネトロンスパッタ成膜装置です。小形卓上型・小スペース装置で、強磁場による多種金属の成膜が可能です。
低い電圧でコーティングすると共に試料がフローティング式なので試料損傷を小さく抑えることが出来ます。
タッチパネル操作でレシピ機能搭載。シーケンサー制御によるフルオートスパッタ成膜を実現しました。

商品は、装置本体とダイヤフラムポンプが付属いたします。アルゴンガスと冷却水循環設備が必須となりますので、ユーティリティについてご確認ください。

冷却水循環装置は弊社で準備することも可能です。
据付取扱説明の必要がある装置です。


MSP-40T 装置の仕様

項目仕様
電源 AC100V(単相100V)15Aアース線付き3芯プラグ
装置サイズ 幅504mm、奥行き486mm、高さ497mm
(装置重量37.7kg)
ダイヤフラムポンプ幅170mm、奥行き287mm、高さ173mm
(重量6.5kg)
真空排気系ターボポンプ(TMP):67ℓ/sec
(装置内蔵チャンバー直結)
ダイヤフラムポンプ(DFP):20ℓ/min
(装置外置き・チューブ接続・重量6.5kg)
到達真空度
真空度測定
1x10-4Pa以下
フルレンジ真空計
操作パネルタッチパネル式操作ディスプレイ
レシピ登録最大20件可能
チャンバーサイズ内径178mm、深さ159mm ステンレスチャンバー
試料台サイズ直径50mm(アノード電極分離フローティング方式)
電極-試料台間隔115mm、95mm、70mm
(高さ別試料台付属)
ターゲット金属
ITO、Ti、W、Cr、Al、Ni、Fe、Ge、Zr、Mo、Cu、Ta、Carbon等
貴金属ターゲット(磁場キャンセルNiプレート使用)
Pt、Pt-Pd、Au、Au-Pd、Pd、Ag 他

MSP-40T 必須ユーティリティについて

本装置はアルゴンガスとターゲット冷却用の冷却水循環装置が必須となります。設備については事前にご確認をお願いいたします。

MSP-40T ターゲットについて

装置本体のほかにターゲット金属が必要となります。別途ご注文くださいますようお願いいたします。
装置には厚さ3mm用のターゲット押さえが標準付属いたします。
厚さの異なるターゲット金属の場合、それぞれに対応したターゲット押さえが必要です。
貴金属ターゲットをご利用になる場合は、磁場の力を弱めるNiプレートとセットで取り付ける必要がございます。
お手持ちのターゲット利用の際は注意点をよくご理解の上ご使用くださいますようお願いいたします。

ターゲット金属とターゲット押さえのご案内
【t=3mm】
 Al、Cu、Mo、Ti、Ta、W、SUS、etc.

【t=2mm】
 Cr、W、Co、Ge、Si、Zr、etc.

【t=1mm】
 Fe、Ni、C、W、Mo、Ti、Cr、Ta、Zn、etc.
 ITO(バッキングプレートt=1mm+ITO t=2mm)
 Pb(バッキングプレートt=1mm+Pb t=1mm)
 Sn(バッキングプレートt=1mm+Sn t=1mm)
 貴金属ターゲットt=0.5mm(Au、Pt、Au-Pd、Pt-Pd、Ag、Pd)
 ※貴金属ターゲットには磁場キャンセルプレートがセットで必要です。
 ※種類・厚さは一例です。

※MSP-40Tは導電性のある金属材料のみを対象としております。
※絶縁物や酸化物のスパッタはRFスパッタ装置をご検討ください。

MSP-40T オプション部品リスト

ご依頼の際は営業お問い合わせからお申し込みください。

ターゲット押さえ【t=2mm用】

ターゲット押さえ【t=1mm用】

貴金属ターゲット用磁場キャンセルプレート

金属ターゲット

※各種金属ターゲットについてはお問い合わせください。

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