RFスパッタ装置 VRF-100S

この装置はRF電源を用いたスパッタ装置です。
DCマグネトロンスパッタでは不可能な、絶縁物や酸化物のスパッタが可能です。様々な種類の物質を試すことができ、研究の幅を広げます。

ターゲットは標準で５源となり、装置正面のタッチパネルを操作することにより真空中で使用ターゲットを切り替えての多層膜成膜も可能です。また、寸法の変更や仕様の追加など、特注仕様へのカスタマイズも柔軟に対応いたします。

商品は、据え置き型の装置本体（ターボポンプ内蔵）と、外付けのロータリーポンプがセットになっております。

ターゲット金属は別途ご注文ください。
据付取扱説明が必要となる装置です。

カタログは準備中です。お問い合わせください。

項目	仕様
電源	ＡＣ１００V（単相１００V１５A）アース付き３Pプラグ　２口
装置サイズ	幅５５０mmｘ奥行き９５０ｍｍｘ高さ１３００ｍｍ（仮）
真空排気系	TMP(６７L/sec)＋ロータリーポンプ(５０L/min) 到達真空度：5×10^-4Pa 以下
真空度測定	フルレンジ真空計
真空槽	内径２１０ｍｍｘ高さ２５５ｍｍ（SUSチャンバー）
試料ホルダーサイズ	最大２インチウェハ対応（下記参考図面参照）
ターゲット～試料ホルダー間隔	４０～７０ｍｍ
ターゲット	Φ３６ｍｍ、厚さ３ｍｍ（バッキングプレート含む）最大搭載数：５
ＲＦ電源	標準仕様：ＲＦ１００W（マニュアルマッチング）
プロセスガス（MFC数）	アルゴン（標準）（オプションにて２系統追加可能）
コンダクタンスバルブ	プリセットされた１４個の開度ポジションを制御可能
冷却水	１．５L／ｍ
安全対策	真空度インターロック、水冷感知センサー、漏電ブレーカその他シーケンサーによる各部インタロックを設定しております。

本装置はアルゴンガスとターゲット冷却用の冷却水循環装置が必須となります。設備については事前にご確認をお願いいたします。

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装置本体のほかにターゲット金属が必要となります。別途ご注文くださいますようお願いいたします。
装置には厚さ３ｍｍ用のターゲット押さえが標準付属いたします。
DCマグネトロンスパッタでは不可能な、絶縁物や酸化物のスパッタが可能です。様々な種類の物質を試すことができ、研究の幅を広げます。

VRF-100Sではお客様の要望に応じたカスタマイズにも対応しております。
お気軽にご相談くださいますようお願いします。

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