RFイオンスパッタ源　VMCシリーズ

酸化物や絶縁物のスパッタを可能とするのがRFスパッタ装置です。

特注品用真空コンポーネンツに関するお問い合わせは
Tel：０２９−２４０−６００５

真空装置のICFサービスポートに組み込み可能なコンポーネントタイプのRFイオンスパッタ源です。
１インチタイプ、２インチタイプをラインナップしております。
ご希望のスパッタリング材料については要相談となりますので、ご希望を添えてお問い合わせくださいますようお願いいたします。

１インチスパッタ源　VMC-25　／１００W型RF電源　RG-100M

仕様

スパッタ源型式	VMC-25
非磁性ターゲット	Φ25.4 t=2mm(t=3mm対応可)
磁性ターゲット	要相談
最大入力	RF100W
取付フランジ	ICF70
冷却水	1.5L/m
冷却水チューブ	1/4″
フランジ～ターゲット間寸法	60～200mm（※１）
シール方式	Oリング
取付姿勢	自由
ベーキング温度	100℃
接続コネクタ	HNコネクタ
オプション（※２）	シャッター追加 ガスライン追加（寸法固定時のみ）

電源型式	RG-100M
最大出力	RF100W
マッチング方式	手動（マッチングボックス内蔵型）
出力コネクタ	HNコネクタ
出力ケーブル長さ	１ｍ（1ｍ以上は、要相談）

---

２インチスパッタ源　VMC-50　／３００W型RF電源　RG-300M

仕様

スパッタ源型式	VMC-50
非磁性ターゲット	φ50.8 t=3mm
磁性ターゲット	φ50.8 t=1mm
最大入力	RF200W
取付フランジ	ICF152
冷却水	2L/m
冷却水チューブ	1/4″
フランジ～ターゲット間寸法	135～200mm（※１）
シール方式	Oリング
取付姿勢	自由
ベーキング温度	100℃
接続ｺコネクタ	HNコネクタ
オプション（※２）	シャッター追加 ガスライン追加

電源型式	RG-300M
最大出力	RF300W
マッチング方式	自動／手動 （マッチングユニットは別置きになります）
出力コネクタ	HNコネクタ
出力ケーブル長さ	１ｍ（1ｍ以上は、要相談）

（※１）
Oリングクランプ方式でチャンバーに取り付けたままフレキシブルに寸法を可変できます。
またご要望の寸法での製作も可能です。

（※２）
取付フランジサイズが変化する場合がありますので別途承認図を作成致します。
ガスライン追加オプションはスパッタターゲット周辺に直接プロセスガスを導入できる機構となります。
２インチスパッタ源の場合は寸法固定時、可動時、どちらも有効となります。

（※３）
超高真空対応1インチスパッタ源の製作も可能です。（要相談）

特注品用 真空コンポーネンツに関するお問い合わせ

• お問い合わせいただいた内容は、入力いただいたメールアドレスに自動で確認メールが配信されます。確認メールが届いていない場合は、メールアドレスの入力間違いの可能性が考えられます。
• １週間以上お返事のない場合、メールサーバーのエラーなど、予期せぬ不具合が生じている可能性がございます。大変お手数をおかけいたしますが、再度お問い合わせいただくか、直接お電話くださいますようお願いいたします。
• 営業的な内容のお問い合わせには返答いたしかねます。