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(株)真空デバイス
真空装置・電子顕微鏡周辺機器の設計・製造、
要望に応える改造を低価格・短納期で行います。

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MSP-30T

多種金属対応マグネトロンスパッタ装置

多目的、実験用成膜装置
電極分離型試料台で試料損傷回避
高速排気・簡易操作で能率的成膜
イオンボンバードで親水性処理機能
小形卓上型・小スペース
強磁場による多種金属成膜可能
TMP+ダイヤフラムポンプで清浄高真空
低価格・コストパフォーマンスの良い機能

MSP-30Tの特長

MSP-30Tは多目的、多金属、実験用イオンスパッタ成膜装置です。スパッタし易い貴金属の他、Mo,W,等の重金属からTi、Al等軽金属をターゲットとし、強磁場マグネトロン方式の電極により成膜が出来ます。
マグネトロン電極は、ターゲット金属表面に沿って外周から中心方向に磁場を作りターゲット全面を有効に利用できます。
スパッタ雰囲気ガスArは、ターゲット電極とシールド電極の間隙よりターゲット表面に噴出させ、スパッタ効率を向上させています。
低い電圧でコーティングすると共に試料がフローティング式なので試料損傷を小さく抑えることが出来ます。
試料台はシャッターを備え、不安定初期スパッタ中に試料をカバーして安定状態を確認の後に試料上への成膜を可能にしています。
オプションでダイヤフラムポンプをスクロールポンプに変更可能。