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(株)真空デバイス
真空装置・電子顕微鏡周辺機器の設計・製造、
要望に応える改造を低価格・短納期で行います。

マグネトロンスパッタ装置 選定案内

マグネトロンスパッタ装置について

ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用したのがマグネトロンスパッタ装置です。 当社のマグネトロンスパッタ装置は、試料へのダメージが極めて少ないことが特徴です。スパッタさせる金属の種類、試料の大きさ、小型で安価など、お客様のご要望に合ったラインナップを各種揃えております。

スパッタターゲット

SEM観察のための表面処理には貴金属スパッタが主流です。
目的とする観察領域の倍率に応じてターゲットをお選びください。

Au.png
観察領域:数千~1万倍
Au-Pd.png
金パラジウム
観察領域:1~5万倍
Pt-Pd.png
白金パラジウム
観察領域:3~5万倍
Pt.png
白金
観察領域:5~10万倍
W.png
タングステン
観察領域:10万倍以上

※観察領域は目安のものとなります。スパッタ粒子の大きさがそれぞれ異なります。
※詳しくは金属粒子の比較例をご覧ください。
※タングステン粒子の大きさはオスミウム粒子に匹敵します。
立体構造などの複雑な構造にはオスミウム、高倍率表面観察にはタングステンが最適です。

簡単操作、低価格で選ぶなら

タイマーでコーティング時間を設定し、ボタンを押すだけ!誰でも簡単にスパッタ処理を行えます。購入時にターゲットを1種類お選びいただけます。

MSP-mini.jpg
MSP-mini
Ag.pngAu.png
光顕.png卓上SEM.png
試料に優しいマグネトロン方式イオンコータです。
操作は簡単、ボタンを押すだけ、上手下手がありません。
全ての贅肉を排除して、低価格・高性能を実現。
光学顕微鏡の透明材料表面を観察する際に簡単に光沢膜コート。
標準のAuターゲットで、簡単に小型SEM用の導電膜コート。
MSP-1S.jpg
MSP-1S
Ag.pngAu.pngAu-Pd.pngPt-Pd.png
卓上SEM.png汎用SEM.png
試料に優しいマグネトロン方式イオンコータです。
操作は簡単、ボタンを押すだけ、上手下手がありません。
小型で場所をとりません。机の片隅で活躍します。

操作性、機能性で選ぶなら

高機能と簡易操作をコンセプトに開発されたMSP20シリーズです。調節機能、自動排気シーケンス、インタロック機能など、様々なニーズに対応するための性能を持ち合わせたラインナップです。それぞれに特徴をもち、UMは試料回転機構、MTは4インチターゲット、TKではタングステンスパッタが可能となっております。

msp20ums.jpg
MSP-20-UM
Ag.pngAu.pngAu-Pd.pngPt-Pd.pngPt.png
測長SEM.png汎用SEM.pnggasjoint.pngturn.png
電子顕微鏡試料に導電処理を施す為のコーティング装置です。
マグネトロンターゲット採用で、試料ダメージを最小限にします。
様々な用途に対応することを可能にする調整機能を装備。
条件出しの際の操作をより簡単にしたボタンレイアウト。
条件出し完了後はボタンひとつでフルオート動作。
傾斜機構付き回転試料ステージをオプションで選択。回り込み性能良好。
雰囲気ガス導入付きで、2系統の排気システムを切換えて最適条件に。
アルゴンガス接続で、より高純度な貴金属膜をコーティング可能。
インターロック・安全機構が充実した電子顕微鏡向けスパッター装置。
MSP20-MT.jpg
MSP-20-MT
ターゲットサイズ100fai.png
Ag.pngAu.pngAu-Pd.pngPt-Pd.pngPt.png
測長SEM.png汎用SEM.pnggasjoint.png
電子顕微鏡試料に導電処理を施す為のコーティング装置です。
マグネトロンターゲット採用で、試料ダメージを最小限にします。
4インチサイズのターゲット仕様。大きな試料・多数の試料を処理可能です。
様々な用途に対応することを可能にする調整機能を装備。
条件出しの際の操作をより簡単にしたボタンレイアウト。
条件出し完了後はボタンひとつでフルオート動作。
雰囲気ガス導入付きで、2系統の排気システムを切換えて最適条件に。
アルゴンガス接続で、より高純度な貴金属膜をコーティング可能。
インターロック・安全機構が充実した電子顕微鏡向けスパッター装置。
MSP20-TK.jpg
MSP-20-TK
W.pngCr.pngCu.pngMo.pngTa.pngTi.pngNi.pngAg.pngAu.pngAu-Pd.pngPt-Pd.pngPt.png
gasjoint.pngAr-gas.png測長SEM.png汎用SEM.png
電子顕微鏡向けタングステン薄膜のコーティング装置です。
超高分解能SEMにおいて超高倍率の観察に活躍します。(20万倍以上)
試料傾斜・回転機構(オプション)を使用することにより回り込み性能の向上も可能。
Mo/Cr/Ni/Cuなどの金属板(オプション)をコーティングすることが可能です。
電圧・電流容量の変更(オプション)により、殆どの金属コーティングを可能にします。
空冷式マグネトロンターゲット採用で、試料ダメージを最小限にし、ターゲットの温度上昇を防ぎます。
雰囲気ガスはアルゴンガスを使用。
条件出しの際の操作をより簡単にしたボタンレイアウト。
条件出し完了後はボタンひとつでフルオート動作。
インターロック・安全機構が充実した電子顕微鏡向けスパッター装置。

一歩先を行く、高性能上位機種

話題のタングステンを始め、様々な金属をスパッタ可能な上位機種です。表面観察から実験用途まで、幅広い分野で活用されています。一歩先を行く試料作りに高清浄真空領域は欠かせません。MSP-30Tではターボポンプ排気による真空領域でのスパッタが可能です。

MSP-30T.jpg
MSP-30T
タングステンクロム銅モリブデンタンタルチタンニッケル鉄アルミITO銀金金パラジウム白金パラジウム白金
gasjoint.pngAr-gas.pngwater.pngTMP.png測長SEM.png汎用SEM.png
多目的、実験用成膜装置
電極分離型試料台で試料損傷回避
高速排気・簡易操作で能率的成膜
イオンボンバードで親水性処理機能
小形卓上型・小スペース
強磁場による多種金属成膜可能
TMP+ダイヤフラムポンプで清浄高真空
低価格・コストパフォーマンスの良い機能
成膜対象:Au・Ag・Pt・Au-Pd・Pd・Cu・Cr・Pt-Pd・Ni・Fe・W・Mo・Ta・Ti・Al・ITO
MSP-30Tの特長

MSP-30Tは多目的、多金属、実験用イオンスパッタ成膜装置です。スパッタし易い貴金属の他、Mo,W,等の重金属からTi、Al等軽金属をターゲットとし、強磁場マグネトロン方式の電極により成膜が出来ます。

マグネトロン電極は、ターゲット金属表面に沿って外周から中心方向に磁場を作りターゲット全面を有効に利用できます。

スパッタ雰囲気ガスArは、ターゲット電極とシールド電極の間隙よりターゲット表面に噴出させ、スパッタ効率を向上させています。

低い電圧でコーティングすると共に試料がフローティング式なので試料損傷を小さく抑えることが出来ます。

試料台はシャッターを備え、不安定初期スパッタ中に試料をカバーして安定状態を確認の後に試料上への成膜を可能にしています。

オプションでダイヤフラムポンプをスクロールポンプに変更可能。

大面積ウェハー対応

半導体製造プロセスにおいて、大面積ウェハーへのスパッタに対応した特殊スパッタ装置です。8インチ、12インチサイズに対応しております。

MSP-8S.jpg
MSP-8in
ターゲットサイズ200fai.png
Au.pngAu-Pd.pngPt.pngPt-Pd.png
RPout.pnggasjoint.png測長SEM.png卓上SEM.png汎用SEM.png
MSP-8inの特長
シリコン基板の大型化にお応えする200mm径の大面積試料ステージをマグネトロンターゲット電極で実現しました。試料ステージの大型化で、8インチウェーハや多数のSEM用試料を同時にコーティングすることが可能で、検査作業を効率化します。
マグネトロン型電極は、ターゲット金属の表面に沿って平行な磁場を形成し、プラズマ放電によって発生する電子をこの磁場に閉じこめ、雰囲気ガスのプラズマ化を促進します。
MSP-8inではさらに、複数の同心円状のヨーク磁極間にターゲット金属を配置して、大きなターゲット面でも磁石とヨーク磁極の間で放射状に均一な磁場をつくるようにしています。
MSP-8inのマグネトロンターゲット電極は、雰囲気ガスのプラズマ化を広い面積にわたり均一に促進し、ステージ全面を一様な厚さでコーティングします。このため、ステージのどの位置でもSEM観察に必要なPtのコーティング厚さが得られます。
中心から外周に向かい磁石の数と磁極リングの径を変えて磁場の強さを制御し、全面を一様な速さでコーティングします。
MSP-8inで採用するマグネトロン方式は、磁場の中に捕捉された電子が雰囲気ガスのプラズマ化を促進するため、低電圧でのコーティングが可能です。またプラズマ領域は電極の近くに集中しているため試料へのイオン衝撃が少なく、流入電子による発熱も抑えられ試料のダメージを回避しています。
MSP-8inのマグネトロンターゲット電極にはSEMの高解像度観察に適したPtを標準装着。2次電子の発生効率が高く、微粒子コーティングが可能です。オプションでPt-Pd、Au、Au-Pdにも対応します。
マグネトロンターゲット電極に替えイオンシャワー電極を装着すれば、試料表面へのイオンインプラント効果により親水性処理が行えます。また、無蒸着SEM観察も可能になります。
MSP-12S.jpg
MSP-12in/s
ターゲットサイズ300fai.pngor50fai.png
Au.pngAu-Pd.pngPt.pngPt-Pd.png
RPout.pnggasjoint.png測長SEM.png卓上SEM.png汎用SEM.png
MSP-12inの特長
シリコン基板の大型化にお応えする300mm径の大面積試料ステージをマグネトロンターゲット電極で実現しました。試料ステージの大型化で、12インチウェーハや多数のSEM用試料を同時にコーティングすることが可能で、検査作業を効率化します。
マグネトロン型電極は、ターゲット金属の表面に沿って平行な磁場を形成し、プラズマ放電によって発生する電子をこの磁場に閉じこめ、雰囲気ガスのプラズマ化を促進します。
MSP-12inではさらに、複数の同心円状のヨーク磁極間にターゲット金属を配置して、大きなターゲット面でも磁石とヨーク磁極の間で放射状に均一な磁場をつくるようにしています。
MSP-12inのマグネトロンターゲット電極は、雰囲気ガスのプラズマ化を広い面積にわたり均一に促進し、ステージ全面を一様な厚さでコーティングします。このため、ステージのどの位置でもSEM観察に必要なPtのコーティング厚さが得られます。
中心から外周に向かい磁石の数と磁極リングの径を変えて磁場の強さを制御し、全面を一様な速さでコーティングします。
MSP-12inで採用するマグネトロン方式は、磁場の中に捕捉された電子が雰囲気ガスのプラズマ化を促進するため、低電圧でのコーティングが可能です。またプラズマ領域は電極の近くに集中しているため試料へのイオン衝撃が少なく、流入電子による発熱も抑えられ試料のダメージを回避しています。
MSP-12inのマグネトロンターゲット電極にはSEMの高解像度観察に適したPtを標準装着。2次電子の発生効率が高く、微粒子コーティングが可能です。オプションでPt-Pd、Au、Au-Pd、Agにも対応します。
Agターゲットにすれば、透明な試料表面への鏡面効果が得られます。光学顕微鏡用に大型サンプルの表面処理を行う際に使用可能。

金属粒子の比較写真

Au-SEMx300000.jpg
Au:金

低倍率観察に最適でコントラストが良い。

Pt-SEMx300000.jpg
Pt:白金

粒子径が細かく、高倍率で観察する際によく使われる。

W-SEMx300000.jpg
W:タングステン

粒子径はオスミウムに匹敵する細かさをもち、
白金よりもさらに高倍率領域での観察を可能とする。

Os-SEMx300000.jpg
Os:オスミウム

オスミウムコーターによるオスミウム金属粒子。
ガス雰囲気の中でコーティングするため試料への回り込みが非常によく、粒子径も非常に小さい。
主に生物試料や立体構造を持つサンプルへのコーティングに使用される。
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